Les équipement de la PTA en Lithographie
Lithographie - Vue d'ensemble
Lithographie
- Lithographique Electronique (100kV)
- Lithographique Nanoimpression
- Aligneur de masque MJB4 (UV et DUV)
- Aligneur de masque MA8 (Face arrière et face avant)
- Lithographique Electronique (100kV)
- Lithographique Nanoimpression
- Aligneur de masque MJB4 (UV et DUV)
- Aligneur de masque MA8 (Face arrière et face avant)
Lithography - Electronic beam lithography : JEOL6300FS
. Canon TFE , source électron de 100kV avec 2 modes (Haute vitesse ou Haute résolution)
. Alignement avec correction totale <15nm
. Echantillon de 5x5mm à 8’’ wafers (Zone d'écriture maximun 6’’)
. Alignement avec correction totale <15nm
. Echantillon de 5x5mm à 8’’ wafers (Zone d'écriture maximun 6’’)
Lithographie – Litho Elec
HEIDELBERG Instrument
µPG 101
µPG 101
Lithography - Mask aligner : MJB4
Aligneur de masque par contact
Exposition U.V et D.U.V
Exposition U.V et D.U.V
lithographie - Aligneur de masque : MA8 (alignement face avant et arrière)
Aligneur de masques (alignement face avant et arrière) : MA8